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电子工业用超纯水设备
发表时间:2014-4-17  文字 〖 〗  阅读次数:4889   [关闭窗口]
设备简介:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,线宽越窄,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
水质要求:电阻率≥10MΩ.CM
工艺流程:原水箱→原水泵→砂滤器→碳滤器→软化器→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→纯水箱→EDI增压泵→EDI膜堆→超纯水箱
设备特点:采用连续电去离子技术(EDI),代替了传统混床技术,不需要再用酸碱再生排放,从而减少客户费用,有利于环境保护。
          采用全自动PLC电气控制,无需人员值守,现场总线控制传输,让您坐在办公室就可实时监控。                              
设备型号:WSDZ系列
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