设备简介：本工程设备用在生产清洗电池片，生产清洗硅片，IC硅片表面电路水处理都要用到我们产品清洗。                         
水质要求： 电阻率≥18MΩ.CM                                              
工艺流程：原水箱→原水泵→砂滤器→碳滤器→保安过滤器→高压泵→一级反渗透→一级水箱→高压泵→二级反渗透→二级水箱→EDI增压泵→EDI膜堆→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象
设备特点：采用连续电去离子技术（EDI）,代替了传统混床技术，不需要再用酸碱再生排放，从而减少客户费用，有利于环境保护。
 采用全自动PLC电气控制，无需人员值守，现场总线控制传输，让您坐在办公室就可实时监控。                               
型号型号：WSGF系列
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